通过核心部件的研发，提升了公司整机设备的技术水平、性价比和核心竞争力，主要技术达到国际同期水平。公司创始人和核心技术团队，专于复杂镀膜工艺的开发，镀膜工艺和设备集成的理论和实际相结合是公司发展的主要特色。公司投入超过1000万元，开发的核心部件主要有：高材料利用率（材料利用率超过40-60%以上）矩形平面磁控溅射阴极、产业用旋转磁控溅射阴极（材料利用率达到80%以上）、线性离子源、多弧阴极、多弧过滤阴极和多弧旋转柱状阴极等。相对于整机设备和镀膜工艺技术，国内核心部件的研究和制备技术水平与国外差距更大。
公司开发的主要设备有：工模具硬质涂层镀膜设备、磁控溅射镀膜设备、多弧离子镀膜设备、磁控溅射复合多弧离子镀镀膜设备、连续线式磁控溅射镀膜生产线、光学镀膜设备、CVD和PECVD化学气相沉积设备、ICP刻蚀设备和ALD原子层沉积等系列真空镀膜和表面处理设备。上海福宜真空设备有限公司，是专于真空镀膜设备、复杂镀膜工艺和真空设备核心部件的研发、生产、销售及技术服务的高新技术企业。
公司组建了近20名由博士、硕士和副高以上职称工程技术人员组成的研发团队；公司拥有净化等级优于1万级的装配车间。公司同时发挥上海科研院所集中的优势，和中国科学院上海微系统与信息技术研究所建有联合实验室，该实验室拥有世界先端真空设备价值超过4000万元，具有新能源、储能和功能薄膜材料制备工艺技术。公司核心技术团队，具有多年军工企业和科研院所的工作经历。公司和上海交通大学、同济大学、华东师范大学和东华大学等高校建立了紧密合作关系，强强联合、优势互补，开发真空设备和镀膜工艺等核心技术。从软件到硬件，公司在产品开发方面积极投入，保障公司产品和技术服务水平达到较高水平。
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